上午大盘探底回升,各大指数表现分化,沪指跌0.31%领跌,创业板指数涨0.03%,科创50指数涨0.56领涨,接下来市场风格或从沪指转向创业板和科创板个股。
板块方面,光刻胶概念股再次强势爆发,并带动电子化学品、国家大基金、中芯国际、先进封装、PCB概念等泛半导体芯片板块集体大涨,后市有望和6G通信题材以及数字经济科技股一起共振走强。
消息面上,3月7日下午,某上市公司在接受100余家机构调研时表示,公司的干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等产品已经面向市场实现了批量销售,其中部分产品已进入核心客户的供应链体系。
消息一出,该上市公司股价便被资金抢筹涨停,并且带动光刻胶概念股触底反弹。
同时,近日业内还传出消息称,某日本某光刻胶大厂已经执行美国“实体清单”的限制要求,对中国大陆某存储晶圆厂断供了KrF光刻胶。
此外,据集微网消息,荷兰政府周三表示,拟限制出口DUV光刻等半导体技术,夏季前实施。
光刻胶是半导体光刻工艺的核心原材料,其产品水平直接影响芯片制造水平,行业技术壁垒极高。
根据资料显示,光刻胶产品按照下游应用领域分为半导体光刻胶(IC光刻胶)、PCB光刻胶、LCD光刻胶。
其中,半导体光刻胶技术难度最大,其根据曝光波长分为i线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)等,曝光波长越短,适用IC制程工艺越先进。
目前,我国中高端胶如KrF光刻胶国产化率不到5%,ArF几乎空白,全部依赖进口(中高端光刻胶国产替代空间巨大),而90%以上市场被日美垄断,其中日本掌握了最领先的光刻胶配方和工艺,占据80%以上市场份额。
随着美国一系列扰乱全球半导体产业链和供应链的政策措施,半导体供应链安全至关重要。复盘日本光刻胶产业崛起关键因素就是上下游协同发展,国内全产业链自主可控有望进一步加速,A股光刻胶概念将受益。
投资机会上,国海证券表示,近年电子信息产业更新换代速度加快,叠加半导体、显示面板产业东移,国内光刻胶需求快速提升。
国信证券认为,光刻胶需求趋向高端化,技术壁垒较高。2021年全球光刻胶市场规模约为92亿美元,中国光刻胶市场规模约为93.3亿元,近5年CAGR值10.9%,保持稳定增长。细分市场高端光刻胶需求较高。
中信证券研报指出,预计市场期待的集成电路产业政策后续有望落地。从当下产业安全角度,应重点关注半导体设备、零部件、材料、高端芯片等环节,后续有望获得政策推动。
风险提示:技术发展风险、市场调整和推广风险、光刻胶量产不及预期风险、半导体行业需求不足风险等。
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