三重利好共振，光刻机概念股持续活跃

受美股等外围市场大跌利空冲击，今天三大指数继续调整，盘面上，以光刻机为代表的半导体设备概念股再度活跃。

近几天在指数缩量震荡背景下，光刻机板块强势特征明显，资金关注度不断升温，背后主要与以下三重利好共振催化有关：

1、国产替代空间广阔，新凯首秀进一步引爆国产替代预期！

消息面上，据界面新闻，3月26日，SEMICON China 2025在上海开幕，吸引全球1400家展商参展。

值得关注的是，深圳国资委旗下企业新凯来首次参展即发布覆盖半导体制造全流程的30余款设备，涵盖刻蚀（ETCH）、扩散（RTP/EPI）、薄膜沉积（PVD/CVD/ALD）及光学/X射线量测六大类产品，成为展会最大亮点。

中信证券指出，光刻机作为半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一，2024年全球市场规模超230亿美元（SEMI数据），其中ASML处于绝对领先，2024年国内市场规模超400亿元（SEMI数据），但据测算国产化率仅2.5%，未来国产替代空间巨大。

2、半导体产业复苏助攻！

2023年全球半导体行业销售额下滑约11%;2024年行业迎来复苏，增长近20%达到6280亿美元。

近日，市场调研机构IDC报告称，全球半导体市场在2024年复苏后，预计2025年将实现稳步增长，AI需求的持续增长和非AI需求的逐步复苏是主要驱动力。

预估2025年广义的Foundry2.0市场（包括晶圆代工、非存储IDM、OSAT和光罩制造）规模将达2980亿美元，同比增长11%。

3、地缘政治催化供应链重组

美国出口管制升级：最新限制令将浸润式DUV光刻机纳入管制范围，倒逼国内晶圆厂加速国产设备验证；

欧洲供应链风险：ASML供应链受地缘冲突扰动，交付周期延长至18个月，国产替代迎来机遇期。